PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。與傳統化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對環(huán)境無(wú)污染，是綠色環(huán)保工藝；對操作者無(wú)傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù))，這些方法統稱(chēng)物理氣相沉積(PhysicalVaporDepoition)，簡(jiǎn)稱(chēng)為PVD。

色澤不會(huì )變化的PVD鍍膜也是鍍鈦的主要特點(diǎn)。和傳統的電鍍不同的是，鍍膜硬度較高，同時(shí)可以避免磨檫現象的發(fā)生，無(wú)剝落情況，高度防腐，所以PVD鍍膜不銹鋼總是可以很廣泛的被運用于眾多的裝飾行業(yè)。相比于其他工藝制作的零件而言，鍍鈦零件使用壽命更長(cháng)，且能夠滿(mǎn)足多種行業(yè)的不同需求。鍍鈦廠(chǎng)家在加工進(jìn)程將給零件和模具添加微米級的厚度。鍍鈦加工一般遵照模具的表面質(zhì)量，并不是按裝填和整平工作，根據鍍鈦加工進(jìn)程，零件或許有少量的粗糙景象，在這種情況下，需求精度的光滑表面處理，需進(jìn)行后序鍍鈦涂層拋光。

在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜。在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發(fā)硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。